應用領域(yù) ：
 

　　1.快(kuài)速熱處(chù)理(RTP) ，快(kuài)速退火(huǒ)(RTA) ，快(kuài)速熱氧化(RTO) ，快(kuài)速熱氮化(RTN) ；
 

　　2.離子(zǐ)注入/接觸退火(huǒ) ；
 

　　3.金(jīn)屬(shǔ)合金(jīn) ；
 

　　4.熱氧化處(chù)理 ；
 

　　5.化合物合金(jīn)(砷化鎵 、氮化物等) ；
 

　　6.多晶硅退火(huǒ) ；
 

　　7.太(tài)陽(yáng)能電池片退火(huǒ) ；
 

　　8.高溫(wēn)退火(huǒ) ；
 

　　9.高溫(wēn)擴散 。
 

　　設備說明 ：
 

　　快(kuài)速退火(huǒ)爐主要由(yóu)真空腔室 、加熱室 、進氣系(xì)統 、真空系(xì)統 、溫(wēn)度控制系(xì)統 、氣冷系(xì)統 、水(shuǐ)冷系(xì)統等幾部分組(zǔ)成 。
 

　　真空腔室 ：真空腔室是(shì)快(kuài)速退火(huǒ)爐的工作空間 ，晶圓在這裡進行(xíng)快(kuài)速熱處(chù)理 。
 

　　加熱室 ：加熱室以多個紅(hóng)外燈管為加熱元(yuán)件 ，以耐(nài)高溫(wēn)合金(jīn)為框架 、高純石英(yīng)為主體 。
 

　　進氣系(xì)統 ：真空腔室尾部有進氣孔 ，精確控制的進氣量用來滿足(zú)一(yī)些特殊工藝(yì)的氣體需求 。
 

　　真空系(xì)統 ：在真空泵和真空腔室之間裝有高真空電磁閥(fá) ，可(kě)以有效確保(bǎo)腔室真空度 ，同時避免氣體倒灌污(wū)染腔室內的被處(chù)理工件 。
 

　　溫(wēn)度控制系(xì)統 ：溫(wēn)度控制系(xì)統由(yóu)溫(wēn)度傳感器(qì) 、溫(wēn)度控制器(qì) 、電力調整器(qì) 、可(kě)編程控制器(qì) 、PC及各(gè)種傳感器(qì)等組(zǔ)成 。
 

　　氣冷系(xì)統 ：真空腔室的冷卻是(shì)通(tōng)過進氣系(xì)統向(xiàng)腔室內充入惰性氣體 ，來加速冷卻被熱處(chù)理的工件 ，滿足(zú)工藝(yì)使用要求 。
 

　　水(shuǐ)冷系(xì)統 ：水(shuǐ)冷系(xì)統主要包括(kuò)真空腔室 、加熱室 、各(gè)部位密(mì)封圈的冷卻用水(shuǐ) 。