WEP CVP21電化學C-V剖面濃度測量儀 德國WEP公司的(de)CVP21電化學C-V剖面濃度測試儀可高(gāo)效 、准(zhǔn)確的(de)測量半導體(tǐ)材(cái)料（結(jié)構 ，層）中的(de)摻雜濃度分布 。選用(yòng)合(hé)適(shì)的(de)電解液與材(cái)料接觸 、腐(fǔ)蝕(shí) ，從而得到材(cái)料的(de)摻雜濃度分布 。電容值電壓(yā)掃描和腐(fǔ)蝕(shí)過程由軟件全自動控制 。 電化學ECV剖面濃度測試儀主要用(yòng)於半導體(tǐ)材(cái)料的(de)研究及開(kāi)發 ，其原理是使用(yòng)電化學電容-電壓(yā)法來測量半導體(tǐ)材(cái)料的(de)摻雜濃度分布 。電化學ECV（