VPO-300快速退火爐 快速退火爐（RTP/RTA）是半導(dǎo)體材料和器(qì)件常用的一(yī)款工藝設備 。快速退火爐可(kě)以在真(zhēn)空 、惰性氣氛
、不同的工藝氣體環境下使用 。VPO-300是一(yī)款很有特點的快速退火爐 ，有非常大的退火空間(jiān) ，適合12英(yīng)寸晶圓或300mm x 300mm大尺寸樣(yàng)品的熱處理 。

RTP-150快速退火爐 升溫速度(dù) ：150攝氏度(dù)每秒 ，可(kě)以用於大6英(yīng)寸晶圓或者(zhě)156mm x 156mm尺寸樣(yàng)品熱處理 。RTP-150可(kě)以支持惰性氣體保護 、低真(zhēn)空或高真(zhēn)空熱處理 。

RTP-100快速退火爐 升溫速度(dù) ：150攝氏度(dù)每秒 ，可(kě)以用於大4英(yīng)寸晶圓或者(zhě)100mm x 100mm尺寸樣(yàng)品熱處理 。RTP-100可(kě)以支持真(zhēn)空或高真(zhēn)空熱處理 。

RTP-1200快速退火爐 該儀器(qì) ：尺寸小巧 ，使用風冷 、無須水冷 ，電流(liú)要求不高（3安培） ，性價比高 ，使用方便(biàn) ，非常適合科研院所的科研使用 。