光刻機/紫外曝光機 （Mask Aligner） 光刻機又名(míng) ：掩模對準曝光機 ，曝光系統 ，光刻系統 ，紫外曝光機等(děng) ；ECOPIA為(wéi)的半導體設備(bèi)供(gōng)應商 ，多(duō)年來致力(lì)於掩模對準光刻機和(hé)勻膠機研(yán)發與生產 ，並(bìng)且廣泛應用於半導體 、微電子 、生物(wù)器件和(hé)納米(mǐ)科技領(lǐng)域 ；該公司是目前世(shì)界上早將光刻機商品化的公司之一 ，擁有雄厚的技術研(yán)發力(lì)量和(hé)設備(bèi)生產能(néng)力(lì) ；並(bìng)且其(qí)設備(bèi)被眾多(duō)著名(míng)企業 、研(yán)發中心 、研(yán)究所和(hé)高校所採(cǎi)用 ；以