VPO-300快速退火爐 快速退火爐（RTP/RTA）是半導體材料和器件常用的一款工藝設備 。快速退火爐可以在真空 、惰性氣氛 、不同的工藝氣體環境下使用 。VPO-300是一款很有特點的快速退火爐 ，有非常大(dà)的退火空間 ，適合12英吋晶圓或(huò)300mm x 300mm大(dà)尺寸樣(yàng)品的熱處理(lǐ) 。

RTP-150快速退火爐 升溫速度 ：150攝氏度每秒 ，可以用於大(dà)6英吋晶圓或(huò)者156mm x 156mm尺寸樣(yàng)品熱處理(lǐ) 。RTP-150可以支持惰性氣體保(bǎo)護(hù) 、低真空或(huò)高真空熱處理(lǐ) 。

RTP-100快速退火爐 升溫速度 ：150攝氏度每秒 ，可以用於大(dà)4英吋晶圓或(huò)者100mm x 100mm尺寸樣(yàng)品熱處理(lǐ) 。RTP-100可以支持真空或(huò)高真空熱處理(lǐ) 。

RTP-1200快速退火爐 該儀器 ：尺寸小巧 ，使用風冷 、無須水冷 ，電流要求不高（3安培） ，性價比高 ，使用方便 ，非常適合科研院所的科研使用 。